中國自製 DUV 曝光機量產 撼動全球半導體市場

中國國產浸潤式 DUV 曝光機首度量產，此突破撼動全球半導體市場。這是北京推動晶片供應鏈自主化、繞開西方技術封鎖的一次關鍵跳躍，也讓市場開始重新為「ASML 護城河」定價。

美國媒體《訊息報》（The Information ）援引兩名不具名知情人士稱，一家總部位於上海的企業已啟動浸沒式深紫外（DUV）光刻機的小規模批量生產，預計今年內向中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等主要晶片製造商交付首批約5台設備，2027年產量計畫提升至約20台。這款中國產光刻機主打28納米晶片生產，還可滿足7納米級別晶片的製造需求。

這是北京推動晶片供應鏈自主化、繞開西方技術封鎖的一次關鍵跳躍，也讓市場開始重新為「ASML 護城河」定價。

中國製曝光機量產，直搗最硬的瓶頸

曝光（lithography）是把電路圖案印到矽晶圓上的製程步驟，公認是半導體製造中最難、也最關鍵的瓶頸。ASML 是全球唯一能量產極紫外光（EUV，波長 13.5 奈米）設備的供應商，市占等同 100%，整體曝光設備市占也逾九成；而波長 193 奈米、靠一層水膜拉高數值孔徑（NA）的浸潤式 DUV，則是成熟製程的主力機種。

路透引述消息來源率先披露，主導該生產的是鮮為人知的中國國營公司上海愛晟納電子科技集團（Aishengna），成立僅3年。報導說，根據公司紀錄，愛晟納於2023年8月成立，註冊資本額70億人民幣（335.12億台幣），僅由兩家國有股東支持：上海電氣控股公司，以及上海國際信託公司1家子公司。

這次量產的主角，是整合多家中國企業技術團隊而成的陣容，其中包含國家扶持的新創上海宇量昇科技有限公司（Shanghai Yuliangsheng Technology）。愛晟納沒有公司網站，也沒有揭露任何營運的公開資料。消息人士說，該公司整合了上海微電子裝備集團（SMEE）與上海宇量昇科技的團隊，去年宇量昇開始測試一台DUV原型機，並與華為、新凱來（SiCarrier）等勢力關係密切。設備主要以中國自製零組件打造，僅少數關鍵料件仍仰賴進口。

知情者說，愛晟納的DUV機台預計需進一步進行測試，其品質仍與荷蘭艾司摩爾（ASML）的同類產品仍有一大段距離。然而，若西方持續限制DUV的出口，國產DUV將是中國晶片製造商的另一種設備來源。

制裁反噬，西方兩頭落空

由於美國與荷蘭的出口管制早已禁止 ASML 向中國銷售頂尖 EUV 設備，中國晶片業者轉而大量囤積 ASML 較舊款的浸潤式 DUV 機台，讓這塊業務一度成為 ASML 在中國市場的重要營收支柱。DUV 銷售與維修服務合計約占 ASML 整體營收的 10% 至 15%。

如今若中國業者能改向本土供應商採購堪用的 DUV 設備，ASML 在當地僅存的立足點便從根本受到威脅。更微妙的是，這則消息正好撞上美國國會推進的《MATCH 法案》，該法案意在封鎖中國購買與維修這類 DUV 機台；一旦中國能自製，這道尚未上路的限制恐怕還沒生效就形同虛設。

市場的解讀相當直接：西方原本設想以管制把中國技術能力凍結在舊世代，結果卻是逼著北京加速自研。對投資人而言，這是最糟的一種劇本，西方企業失去豐厚的中國營收，遏制中國技術進展的地緣目標卻依然落空。市場擔心，連最難的曝光關卡都被攻破，供應鏈其餘環節被中國製設備替代恐怕只是時間問題。