華為推「韜定律」拚5年後達陣1.4奈米

大陸科技巨頭華為25日高調宣布在半導體技術取得新突破,預計5年後將設計出晶體管密度達到1.4奈米制程的高端晶片。受訪分析師指出,這一突破目前仍屬理論與設計層面 ,最終能否實現商業化量產,仍取決於大陸的晶片生產設備與製程工藝能否跟上。

2026國際電路與系統研討會25日在上海舉行,華為董事、半導體業務部總裁何庭波在題為「半導體新路徑探索與實踐」的主旨演講中,正式發表「韜定律」。這是中國在全球半導體領域首次提出指導產業發展的新原則。

韜定律跳出摩爾定律的框架,提出以「時間微縮」替代後者的「幾何微縮」,通過壓縮訊號傳播時延等方式提升晶片性能,以突破繼續縮小晶體管尺寸所面臨的物理瓶頸。

何庭波在演講中提到,華為基於韜定律已設計並量產381款晶片。她還透露,到2031年,基於韜定律的高端晶片,晶體管密度將達到1.4奈米制程的同等水平。

中國大陸目前最先進的晶片製造工藝,普遍被認為處於7奈米水平;而全球最大的晶片製造商台積電,目前已推進2奈米制造技術,並計劃在2029年開始1.4奈米量產。

受華為新發布提振,中國晶片概念股25日大幅走強。其中,中芯國際漲幅一度接近20%,股價創歷史新高。


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分析師:商業量產仍待檢驗

新加坡聯合早報引述台灣資深半導體產業顧問陳子昂表示,從物理學角度來看,很多理論都可以推導出來,但關鍵在於能否實現商業化。目前市面上主流的晶圓設備仍以平面工藝為基礎,而韜定律採用晶體管堆疊的方式,現有設備能否生產仍是一個問題。

他表示,「大家都在一片土地上蓋平房,難道沒有人思考過要蓋個高樓嗎?問題就在於設備和材料配合不了。」

陳子昂指出,即便有這樣的設備,晶片在製造出來後仍需面對功率(Power)、性能(Performance)與面積(Area)三方面的綜合檢驗,「終究要面臨殘酷的市場」。

香頌資本董事沈萌也認為,華為新提出了一種技術路線,並不意味著它已經成熟到可以商業化量產。此外,以技術路線的差異去對標製程工藝水平,「本身就有點像蘋果和梨的比較」。

他指出,華為在晶片設計領域一定程度上承擔了「國家隊」的角色,客觀上確實取得了一定突破。但在當下的時間節點提出韜定律,也並不全是市場化策略。

沈萌說,華為一方面要配合中國的國家科技投入戰略,另一方面半導體近期是全球市場非常熱的概念,也涉及中國在人工智能等更廣泛領域與美國進行戰略博弈的籌碼,「華為恰好在最熱的高點上提振了民族自信心。但問題是,科學定律並不是喊口號就能喊出來的,它必須經過長期的、反覆的驗證。」

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